리소 그래피1

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소개글
리소 그래피1에 대한 자료입니다.
본문내용
*리소그래피
집적 회로 제작 시 실리콘칩 표면에 만들고자 하는 패턴을 빛으로 촬영한 수지를 칩 표면에 고정한 후 화학 처리나 확산 처리하는 기술. 이 기술의 핵심은 짧은 파장의 빛을 사용하여 정밀도를 높이는 것으로, 처음에는 가시광선, 자외선을 사용했으나 최근에는 전자 빔을 사용해 더 미세한 패턴을 만든다.
1. Nano Paterning
일단 반도체쪽에서 나노기술을 공부하시려면 가장 관련이 많은 분야가 나노패터닝 입니다.
반도체를 만들때 중요한것이, 회로를 설계하는것과, 설계된 회로를 구현하는것 입니다.
얼마나 회로를 작고 정확하게 그려낼수 있는가 하는것이 반도체의 성능과 직결되는 인인데,
이러한 패터닝의 관점에서 나노기술이 유용해지고 있습니다.
1.1 Top-Down 방식
현재 반도체를 만드는대 쓰이는 기술인 포토 리소그래피 기술은 대표적인 탑다운 방식입니다.탑다운 방식이란, 큰 물체를 점점 잘개 쪼개나가는 방식이죠.
현재의 리소그래피 기술은 거의 한계에 다가서있다고 생각되어지고 있어서 새로운 방식의 패터닝방식이 요구되고 있습니다.
이러한 노력들에 NGL (Next Generation Lithography) 라고 불리는 새로운 리소그래피들이 있는데 아직까지는 No Good Lithography 라고 불릴정도로 대부분이 그다지 만족스럽지 못한 기술들 입니다.
그중에 두가지가 현재 가장 각광받고 있는데 EUV Lithography와 E-Beam Lithography가 그것들입니다.
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