[박막공학] 화학적 기상 증착법(Chemical Vapor Deposition) 7~8분 분량의 핵심적인 내용만 담은 잘 정리된 PPT자료

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소개글
[박막공학] 화학적 기상 증착법(Chemical Vapor Deposition) 7~8분 분량의 핵심적인 내용만 담은 잘 정리된 PPT자료에 대한 자료입니다.
목차
1. What is the thin film?
2. What is the CVD?
3. Principle of the cvd
4. AdvantageS of the CVD
5. Classification of the CVD
6. Applications of the CVD
7. Prospects of the CVD
8. Atomic layer deposition
9. Conclusion
본문내용
WHAT IS THIN FILM?
KIST Definition (1991)
- Thin Film : 기판층(substrate layer)에 형성된 수 m 이하의 두께를
갖는 것으로 독립적인 기능을 보유한 막.
ADVANTAGES OF THIN FILM
Complexibility and Accumulations
Easy processing
lm)
Easy Control of Thermal, Mechanical and Chemical Properties
Down the Cost of Production
High-Reliance
WHAT IS cvd?
Principle of cvd
High purity and quality deposition
Good economy and process control
A great variety of chemical compositions
High step coverage
Selective deposition
AdvantageS of CVD
Classification of CVD
Thermal(conventional) CVD
- Operating Temp. : 800 1200 ℃
- Mass Products
- High Purity Thin Film
- influenced by various factors
Metal-Organic CVD(MOCVD)
- Metal-Organic compound
- High reproducibility
- Low-Temperature
- Complex structure
Plasma Enhanced CVD(PECVD)
- Using a Plasma
- Low-Temperature
- High deposition rate
- Limited step coverage
Low Pressure CVD(LPCVD)
- Pressure : 0.5 ~ 1 Torr
- High step coverage
- High Uniformity
- Low deposition rate
참고문헌
[1] Goiyama Hiroshi, ‘CVD핸드북’, 반도출판사, 1993
[2] K.L.Choy, ‘Chemical Vapor depostion of coatings’, Progress in Materials
Science, 2003
[3] Stanley Middleman, K.Hochberg , `Process Engineering Analysis in Semiconductor Device Fabrication`, Mc Graw-Hill,Inc., 1995
[4] 황호정, ‘반도체 공정기술’, 생능출판사, 1999
[5] 윤현민, 이형기, `반도체 공학`, 복두출판사, 1995
[6] 이종덕, `실리콘집적회로 공정기술`, 대영사, 1997
[7] 신현국, `CVD/ALD 재료 기술 동향`, (주)유피 케미컬, 2005
[8] 김상훈, ‘Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition’, 전북대학교, 2008
[9] http://blog.naver.com/ycin6306/90021955004
[10] http://blog.naver.com/ungoni?Redirect=Log&logNo=140021821478
[11] http://blog.naver.com/evagrn?Redirect=Log&logNo=20003854419
[12] http://cafe.naver.com/semico.cafe?iframe_url=/ArticleRead.nhn%3Farticleid=2
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