[나노화학기술] 소프트 리소그래피 기술(영문)

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레포트 > 공학계열
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[나노화학기술] 소프트 리소그래피 기술(영문)

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소개글

[나노화학기술] 소프트 리소그래피 기술(영문)에 대한 자료입니다.

1.Introduction
2.What is soft-lithography?
3.Article : To achieve high resolution patterning
4.Conclusion
5.References

본문내용

What is soft-lithography?
So, an alternative and non-photolithographic method that we call soft lithography was developed. Because this method uses a patterned elastomer(e.g. PDMS(Poly DiMethyl Siloxane)) as the stamp, mold, or mask to generate micro-patterns and microstructures, it was titled as 'soft' lithography. As compared with photo-lithography, soft lithography has many kinds of strength. It is low in capital cost, easy to learn, simple to apply, and accessible to a wide range of users. And it can generate structures on both planar and non-planar surfaces, and generate both 2D and 3D structures, while photo-lithography only on planar surface and 2D structures. Also, it doesn't need to use light or other high energy particles. Photo-lithography can be applied to only polymers with photo-sensitive, but soft lithography can be applied to various polymers, like unsensitized polymers, precursor polymers, conducting polymers, etc. But, naturally, soft lithography has some drawbacks such as deformation of the elastomeric stamp of mold, density of defects in the formed pattern, and difficulty in high-resolution registration. So, to solve these problems, we could find the following article. "Hybrid NanoImprint-Soft Lithography with Sub-15nm Resolution by Zhiwei Li, Yanni Gu, Lei Wang, Haixiong Ge, Wei Wu, Qiangfei Xia, Changsheng Yuan, Yanfeng Chen, Bo Cui, and R. Stanley Williams. NANO LETTERS 2009 Vol.9, No.6 2306~2310"

Article : To achieve high resolution patterning
Soft lithography commonly uses PDMS to stamp. It enables a conformal contact with substrates or the master mold over a large area without applying external pressure. But low elastic modulus of PDMS limits to produce on sub-100nm scale.

참고문헌

References
 Hybrid NanoImprint-Soft Lithography with Sub-15nm Resolution by Zhiwei Li, Yanni Gu, Lei Wang, Haixiong Ge, Wei Wu, Qiangfei Xia, Changsheng Yuan, Yanfeng Chen, Bo Cui, and R. Stanley Williams. NANO LETTERS 2009 Vol.9, No.6 2306~2310
 나노임프린트 리소그래피, 박장선, Machinery Industry, 84~91
 소프트 리소그래피 기술 동향, 신영재, 조정대, 이응숙, Journal of the Korean Society of Precision Engineering Vol.20, No.4, April 2003
 Soft lithographic methods for nano-fabrication, Xiao-Mei Zhao, Younan Xia and George M. Whitesides, J. Mater. Chem., 1997, 7(7), 1069-1074
 SOFT LITHOGRAPHY, Younan Xia and George M. Whitesides, Annu. Rev. Mater. Sci. 1998. 28:153-84
 차세대 LCD 구현을 위한 Printable Electronics 기술 개발 동향, 김재훈, 이유진, The Korean Information Display Society, 2011년 제12권 제1호
 소프트 리소그래피 (마이크로 컨택프린팅을 중심으로…), 한국기계연구원 최대근
 Soft Lithography, Younan Xia and George M. Whitesides, Angew. Chem. Int. Ed. 1998, 37, 550-575

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