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Gate bias stress 조건에서의 Excimer laser annealing 및 Ultra Large Grain 프로세스에 의해 제작된 Poly-Si TFTs의 분석 -
분야 자연과학 > 기타(자연과학)
저자 박진수 윤건주 전성호 김세현 김상호 김영국 이준신
발행기관 한국진공학회
간행물정보 한국진공학회 학술발표회초록집 2019년, 2019년 한국진공학회 (제56회 동계정기학술대회 초록집), 278page(총1page)
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목차
부제 :
 
 
Gate bias stress, poly-Si TFT, ELA, ULG
 
 
도움말
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