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Annealing Temperature Dependent Electrical Characteristics of ALD-deposited HfO₂ -
분야 자연과학 > 기타(자연과학)
저자 Soonkon Kim Byoungdeog Choi
발행기관 한국진공학회
간행물정보 한국진공학회 학술발표회초록집 2019년, 2019년 한국진공학회 (제56회 동계정기학술대회 초록집), 290page(총1page)
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목차
부제 :
 
 
Si, HfO₂, Annealing, MOS capacitor
 
 
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