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HOME > 공학 > 기계공학 > 한국화학공학회 > Korean Chem.Eng.Res.(화학공학)
분체공학,유동층,고분자,재료(무기, 유기) : Hard Mask 용 SiO2의 NF3/Ar ICP 식각특성과 실험계획법과의 비교
분야 공학 > 기계공학
저자 박형조 ( Hyung Jo Park ) , 라현욱 ( Hyun Wook Ra ) , 남기석 ( Kee Suk Nahm ) , 김기주 ( Ki Ju Kim ) , 한윤봉 ( Yoon Bong Hahn )
발행기관 한국화학공학회
간행물정보 Korean Chem.Eng.Res.(화학공학) 2004년, 제42권 제6호, 712~715쪽(총4쪽)
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SiO2, Dry Etching, High Density Plasma, Design of Experiments
 
 
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