논문 : RF 마그네트론 스퍼터링에 의해 증착된 ITO/TiO2 적층 박막의 어닐링 효과
분야
공학 > 금속공학
저자
이영진 ( Young Jin Lee ) , 허성보 ( Sung Bo Heo ) , 이학민 ( Hak Min Lee ) , 김유성 ( Yu Sung Kim ) , 김대일 ( Dae Il Kim )
발행기관
한국열처리공학회
간행물정보
열처리공학회지 2012년, 제25권 제5호, 244~248페이지(총5페이지)
파일형식
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    영문초록
    ITO/TiO2 films were deposited by RF magnetron sputtering on glass substrates and then the effect of vacuum annealing on the structural, optical and electrical properties of the films was investigated. The structural, optical and electrical properties are strongly related to annealing temperature. The films annealed at 300℃ showed a grain size of 40.9 nm, which was larger than as-deposited amorphous films. The optical transmittance in the visible wavelength region also increased, while the electrical resistivity decreased. The ITO/TiO2 films annealed at 300℃ showed the highest optical transmittance of 81% and also showed the lowest electrical resistivity of 3.05×10-4 Ω㎝ in this study.
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