고분자 분산형 액정 디스플레이는 일반적인 액정 디스플레이에 사용되는 액정모드의 일종으로 액정과 고분자(매트릭스)로 구성되는 복합체의 광산란 효과를 이용한 액정구동 방식이다. 이 경우 빛의 투과 및 산란의 강도를 제어 할 수 있기 때문에 편광판이 필요하지 않으며 광 손실을 줄여 투과도를 향상 시킬 수 있고, 동일한 구동 전압에서도 높은 선명도(Contrast)를 구현할 수 있다는 장점이 있다. 특히 통상적인 LCD 공정 중 액정 배향을 위한 러빙 및 배향막 형성 공정의 생략이 가능해 제작 공정이 단순화 되고 공정 비용을 절감할 수 있으며, 공정에 따른 불량 요인을 감소 시킬 수 있다는 장점도 함께 가지고 있다. 이에 본 발표에서는 기존 고분자 분산형 액정 디스플레이에 칼라 염료를 적용하여 디스플레이 소자를 제작하고, 그 특성을 평가하였다.
고분자 분산형 액정 디스플레이는 일반적인 액정 디스플레이에 사용되는 액정모드의 일종으로 액정과 고분자(매트릭스)로 구성되는 복합체의 광산란 효과를 이용한 액정구동 방식이다. 이 경우 빛의 투과 및 산란의 강도를 제어 할 수 있기 때문에 편광판이 필요하지 않으며 광 손실을 줄여 투과도를 향상 시킬 수 있고, 동일한 구동 전압에서도 높은 선명도(Contrast)를 구현할 수 있다는 장점이 있다. 특히 통상적인 LCD 공정 중 액정 배향을 위한 러빙 및 배향막 형성 공정의 생략이 가능해 제작 공정이 단순화 되고 공정 비용을 절감할 수 있으며, 공정에 따른 불량 요인을 감소 시킬 수 있다는 장점도 함께 가지고 있다. 이에 본 발표에서는 기존 고분자 분산형 액정 디스플레이에 칼라 염료를 적용하여 디스플레이 소자를 제작하고, 그 특성을 평가하였다.
리튬은 화학제품, 유리, 의학 등 다양한 산업에 이용되고 있으며, 앞으로 이차전지산업의 성장으로 인해 수요가 급증할 것으로 예상되고 있다. 이러한 리튬은 80% 이상이 염수에서 생산되고 있으며, 최근 들어 이차전지의 원리를 이용하여 염수에 서의 리튬이온을 효율적으로 회수할 수 있는 연구가 진행되었다. 이 시스템은 리튬과 선택적으로 반응하는 양극물질과 음이온과 반응하는 음극물질로 구성되어 있으나, 음극으로 사용되고 있는 은 전극의 비싼 가격으로 인해 대면적화가 어려운 실정이다. 본 연구에서는 음극 대체물질로 값싼 아연판을 사용하여 충·방전이 가능한 가역적 시스템을 구성하였고, 다른 이온들이 고농도로 용해된 염수에서의 리튬이온 선택적 회수 실험을 진행하였다.
리튬은 화학제품, 유리, 의학 등 다양한 산업에 이용되고 있으며, 앞으로 이차전지산업의 성장으로 인해 수요가 급증할 것으로 예상되고 있다. 이러한 리튬은 80% 이상이 염수에서 생산되고 있으며, 최근 들어 이차전지의 원리를 이용하여 염수에 서의 리튬이온을 효율적으로 회수할 수 있는 연구가 진행되었다. 이 시스템은 리튬과 선택적으로 반응하는 양극물질과 음이온과 반응하는 음극물질로 구성되어 있으나, 음극으로 사용되고 있는 은 전극의 비싼 가격으로 인해 대면적화가 어려운 실정이다. 본 연구에서는 음극 대체물질로 값싼 아연판을 사용하여 충·방전이 가능한 가역적 시스템을 구성하였고, 다른 이온들이 고농도로 용해된 염수에서의 리튬이온 선택적 회수 실험을 진행하였다.
리튬은 화학제품, 유리, 의학 등 다양한 산업에 이용되고 있으며, 앞으로 이차전지산업의 성장으로 인해 수요가 급증할 것으로 예상되고 있다. 이러한 리튬은 80% 이상이 염수에서 생산되고 있으며, 최근 들어 이차전지의 원리를 이용하여 염수에 서의 리튬이온을 효율적으로 회수할 수 있는 연구가 진행되었다. 이 시스템은 리튬과 선택적으로 반응하는 양극물질과 음이온과 반응하는 음극물질로 구성되어 있으나, 음극으로 사용되고 있는 은 전극의 비싼 가격으로 인해 대면적화가 어려운 실정이다. 본 연구에서는 음극 대체물질로 값싼 아연판을 사용하여 충·방전이 가능한 가역적 시스템을 구성하였고, 다른 이온들이 고농도로 용해된 염수에서의 리튬이온 선택적 회수 실험을 진행하였다.
반도체 제조 공정이나 정밀제품 또는 전자제품 제조공정은 일반적으로 오염 물질들이 배제된 클린룸 내에서 제조되고 있고, 이러한 클린룸의 오염 정도는 제조되는 제품의 생산수율에 직결되는 중요한 요소로 작용하고 있다. 웨이퍼의 불량을 방지하고 생산 수율을 높이기 위해서는 불량품 원인 물질인 기상으로 존재하는 휘발성 유기화합물(VOCs)이 미립자 상태로 공기 중에 존재하여 클린룸으로 유입되는 것을 차단하여야 한다. 본 연구에서는 반도체 클린룸 내 주로 발생하는 PGMEA의 제거 성능을 확인하고 적용성 검토를 위해 펠렛 타입의 흡착/산화 촉매를 카트리지 형태의 필터로 제작/적용하였다. 작업 환경에서 요구로 하는 수준의 제거가 가능함을 확인하였다. 본 연구결과를 통해서 PGMEA 반도체 클린룸 뿐만 아니라 자동차 도장 작업 등 VOC를 사용하는 모든 전 사업 분야의 ...
반도체 제조 공정이나 정밀제품 또는 전자제품 제조공정은 일반적으로 오염 물질들이 배제된 클린룸 내에서 제조되고 있고, 이러한 클린룸의 오염 정도는 제조되는 제품의 생산수율에 직결되는 중요한 요소로 작용하고 있다. 웨이퍼의 불량을 방지하고 생산 수율을 높이기 위해서는 불량품 원인 물질인 기상으로 존재하는 휘발성 유기화합물(VOCs)이 미립자 상태로 공기 중에 존재하여 클린룸으로 유입되는 것을 차단하여야 한다. 본 연구에서는 반도체 클린룸 내 주로 발생하는 PGMEA의 제거 성능을 확인하고 적용성 검토를 위해 펠렛 타입의 흡착/산화 촉매를 카트리지 형태의 필터로 제작/적용하였다. 작업 환경에서 요구로 하는 수준의 제거가 가능함을 확인하였다. 본 연구결과를 통해서 PGMEA 반도체 클린룸 뿐만 아니라 자동차 도장 작업 등 VOC를 사용하는 모든 전 사업 분야의 ...
반도체 제조 공정이나 정밀제품 또는 전자제품 제조공정은 일반적으로 오염 물질들이 배제된 클린룸 내에서 제조되고 있고, 이러한 클린룸의 오염 정도는 제조되는 제품의 생산수율에 직결되는 중요한 요소로 작용하고 있다. 웨이퍼의 불량을 방지하고 생산 수율을 높이기 위해서는 불량품 원인 물질인 기상으로 존재하는 휘발성 유기화합물(VOCs)이 미립자 상태로 공기 중에 존재하여 클린룸으로 유입되는 것을 차단하여야 한다. 본 연구에서는 반도체 클린룸 내 주로 발생하는 PGMEA의 제거 성능을 확인하고 적용성 검토를 위해 펠렛 타입의 흡착/산화 촉매를 카트리지 형태의 필터로 제작/적용하였다. 작업 환경에서 요구로 하는 수준의 제거가 가능함을 확인하였다. 본 연구결과를 통해서 PGMEA 반도체 클린룸 뿐만 아니라 자동차 도장 작업 등 VOC를 사용하는 모든 전 사업 분야의 ...