소개글
리소그래피 Lithography3에 대한 자료입니다.
본문내용
리소그래피(Lithography)
집적회로를 만들 때 중요한 부분에 사진기술이 사용된다. 실리콘칩 표면에 만들고자 하는 부품의 패턴을 빛으로 촬영하고 그것이 감광된 수지를 칩 표면에 고정한 후 화학처리나 확산처리를 하는데, 이를 총칭해 리소그래피(lithography)라 한다.
따라서 얼마만큼 미세한 패턴을 만드는가가 이 기술의 키포인트인데, 짧은 파장의 빛을 사용하면 정밀도가 높은 패턴을 만들 수 있다.
처음에는 눈에 보이는 파장의 빛(가시광선)을 사용하는 정도였으나, 곧이어 자외선을 사용하게 됐고, 최근에는 필요에 따라 전자빔을 사용해 1μ 이하의 미세한 패턴을 만든다. 이것을 서브미크론 기술이라 한다.
그 다음에 기대되는 것이 더욱 파장이 짧은 X선이다.
이를 위해 강한 X선을 만들어내는 장치가 개발됐다.
전자를 원둘레를 따라서 뱅글뱅글 돌리다가 갑자기 전자에 브레이크를 걸면 강한 X선이 방출되는 이 장치는 원래 싱크로트론(synchrotron)으로 불리는데, 그 궤도(orbit)를 따라 도는 전자에서 방사(radiation)되기 때문에 SOR로 약칭된다.
세계 각국에서 엄청나게 돈이 많이 드는 이 장치의 건설과 기술개발에 힘을 쏟는 이유는 장래에 국방 등에 쓰이는 대규모초집적회로 또는 지능기계의 기초가 되기 때문이다.
발취
http://cafe.daum.net/1004NT
http://news.media.daum.net/snews/digital/science/200603/02/etimesi/v11876585.html