[소자재료] High-K Material -HfO2 를 중심으로

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소개글
[소자재료] High-K Material -HfO2 를 중심으로에 대한 자료입니다.
목차
High-K material의 필요성
High-K material의 요구조건
High-K material 소개와 장단점
High-K material 공정소개
연구중인 중점 트랜드 / 발전방향
본문내용
High-K material의 필요성

Thin SiO2의 문제점

게이트 유전막을 통한 boron penetration


20Å 미만의 두께에서
leakage current 발생

poly-si depletion effect

해결

SiO2에 비해 큰 유전상수

물리적 두께 증가

전자의 터널링 억제


Motivation



High Density
- More transistors onto a smaller chip
- Cost effective from more chips on the same wafer

High Performance
- Higher current drive
- Smaller capacitance
- Reduced gate delay

Low Voltage & Low Power
- Mobile system application