![[화학공학] 나노공정(nano imprint lithography)-1](http://images.happyhaksul.com/thumb/550/549717-0001.gif)
![[화학공학] 나노공정(nano imprint lithography)-2](http://images.happyhaksul.com/thumb/550/549717-0002.gif)
![[화학공학] 나노공정(nano imprint lithography)-3](http://images.happyhaksul.com/thumb/550/549717-0003.gif)
![[화학공학] 나노공정(nano imprint lithography)-4](http://images.happyhaksul.com/thumb/550/549717-0004.gif)
![[화학공학] 나노공정(nano imprint lithography)-5](http://images.happyhaksul.com/thumb/550/549717-0005.gif)
![[화학공학] 나노공정(nano imprint lithography)-6](http://images.happyhaksul.com/thumb/550/549717-0006.gif)
![[화학공학] 나노공정(nano imprint lithography)-7](http://images.happyhaksul.com/thumb/550/549717-0007.gif)
![[화학공학] 나노공정(nano imprint lithography)-8](http://images.happyhaksul.com/thumb/550/549717-0008.gif)
![[화학공학] 나노공정(nano imprint lithography)-9](http://images.happyhaksul.com/thumb/550/549717-0009.gif)
![[화학공학] 나노공정(nano imprint lithography)-10](http://images.happyhaksul.com/thumb/550/549717-0010.gif)
![[화학공학] 나노공정(nano imprint lithography)-11](http://images.happyhaksul.com/thumb/550/549717-0011.gif)
![[화학공학] 나노공정(nano imprint lithography)-12](http://images.happyhaksul.com/thumb/550/549717-0012.gif)
![[화학공학] 나노공정(nano imprint lithography)-13](http://images.happyhaksul.com/thumb/550/549717-0013.gif)
![[화학공학] 나노공정(nano imprint lithography)-14](http://images.happyhaksul.com/thumb/550/549717-0014.gif)
분야
hwp1. 개요
2. 기술개발 및 동향
3. 응용분야 및 전망
4. 결론
5. 참고문헌
(3) 접촉 임프린팅
프린팅 방식의 인쇄술은 기존 광학 리소그래피의 대체기술 중 하나로 1990년 중반 IBM의 연구진에 의해 연구되기 시작하였습니다. 비슷한 시기인 1993년 하버드 대학의 Kumar와 Whitesides는 Alkanethiol 잉크가 묻은 폴리머가 금도금된 표면과 접촉시 Thiol 단분자막이 형성되는 현상을 발견하여 잉크의 단분자막을 표면에 전사하는데, 이러한 형상을 이용한 뮤-접촉 프린팅 이라는 새로운 공정을 개발하는 계기가 되었습니다. Hard stamp(Si or Quartz)를 사용하는 자외선/열 임프린팅 과는 달리 PDMS soft elastomeric stamp를 사용하여 레지스트 위에 잉크를 마이크로 및 나노스케일로 패터닝하고 형성된 단분자막을 이용하여 나노구조물을 제작하는 방식입니다. 이는 소프트 리소그래피의 한 지류 기술이라고 할 수 있습니다. 접촉식 프린트를 구성하는 주요 기술로는 마스터, 엘라스토머, 스템프, 잉크, 프린팅 장비 등이 있습니다. 공정 순서는 그림 6a 와 같이 , 규소 와이퍼 위에 전자빔이나 기타 나노패턴 구현이 가능한 리소그래피로 마스터 패턴을 제작한 후 , 프리폴리머를 캐스팅합니다. 화학적인 방법으로 엘라스토머를 응고시킨후 이를 마스터로부터 떼어냄으로써 스템프 제작이 완료됩니다. 다음 단계에서 그림 6a-4 나 그림 6a-5의 방법으로 잉킹시키고 이를 금도금 박막 위에 접촉시킵니다. 이때 금박막 위에 잉크의 단분자막이 전사되고, 이를 에치 배리어로 이용하여 기판 안으로 물리적 식각 공정이 수행됩니다. 그림 6 b,c,d,는 접촉 프린팅 공정이 각 단계에서 구현된 패턴 형상을 보여주고 있는데 이 공정 기술은 공정 최적화를 통해 100nm급 패턴 제
1)박은성, “나노기술의 연구방향: 향후 10년간의 나노기술 연구개발에 대한 전 망”KOSEN/OSTIN Expert Review, 2000. 9.
2)조용호, “나노임프린팅 장비동향.” 전자정보센터, 2006. 12.
3)http://www.research.ibm.com/journal/rd/455/michel.html
4)http://www.molecularimprints.com/index.html
5)http://www.princeton.edu/~chouweb/newproject/page3.html
6)고려대학교 디스플레이 및 나노시스템 연구실(http://diana.korea.ac.kr)
7)부산대학교 화학공학과 4학년 전공선택 “나노공학” 수업자료.
