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[나노화학기술] 소프트 리소그래피 기술(영문)

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레포트 > 공학계열
2011.11.21
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[나노화학기술] 소프트 리소그래피 기술(영문)

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소개글

[나노화학기술] 소프트 리소그래피 기술(영문)에 대한 자료입니다.

1.Patterning is important
2.Photo-lithography, Soft lithography
3.Simplicity of Soft lithography
4.Limitations of soft lithography
5.Solution(paper review)
6.Conclusion

본문내용

The lens is used to focus the sectioned UV light down to a smaller area on the chip. The smallest feature size capable of being written on the wafer is a function of the numerical aperture of the lens as well as the wavelength of the light.

uses a patterned elastomer(e.g. PDMS(Poly DiMethyl Siloxane)) as the stamp, mold, or mask to generate micro-patterns and microstructures

Cracking during the stamp fabrication step
Deformation of the elastomeric stamp of mold
Density of defects in the formed pattern
Difficulty in high-resolution registration

low viscosity UV curable acrylated poly(dimethyl siloxane) material.
multi-functional acrylate cross-linker, free radical initiator.
When UV-vis light exposed, low viscosity UV-curable materials self-polymerize forming polymer network. (It will be rigid layer.)

참고문헌

Hybrid NanoImprint-Soft Lithography with Sub-15nm Resolution by Zhiwei Li, Yanni Gu, Lei Wang, Haixiong Ge, Wei Wu, Qiangfei Xia, Changsheng Yuan, Yanfeng Chen, Bo Cui, and R. Stanley Williams. NANO LETTERS 2009 Vol.9, No.6 2306~2310
나노임프린트 리소그래피, 박장선, Machinery Industry, 84~91
소프트 리소그래피 기술 동향, 신영재, 조정대, 이응숙, Journal of the Korean Society of Precision Engineering Vol.20, No.4, April 2003
Soft lithographic methods for nano-fabrication, Xiao-Mei Zhao, Younan Xia and George M. Whitesides, J. Mater. Chem., 1997, 7(7), 1069-1074
SOFT LITHOGRAPHY, Younan Xia and George M. Whitesides, Annu. Rev. Mater. Sci. 1998. 28:153-84
차세대 LCD 구현을 위한 Printable Electronics 기술 개발 동향, 김재훈, 이유진, The Korean Information Display Society, 2011년 제12권 제1호
소프트 리소그래피 (마이크로 컨택프린팅을 중심으로…), 한국기계연구원 최대근
Soft Lithography, Younan Xia and George M. Whitesides, Angew. Chem. Int. Ed. 1998, 37, 550-575

#소프트 #나노화학기술 #리소그래피 #기술 #나노

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