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    Semiconductor Process

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    소개글
    Semiconductor Process에 대한 자료입니다.
    목차
    1. Wafer cleaning & Oxidation
    2. Photolithography
    3. Etching
    4. Metal deposition
    5. Silicidation
    6. QnA
    본문내용
    Lithography
    Si Wafer coated with PR
    Spin coating
    PR is coated evenly by turning round rapidly.
    Exposure
    Align the Mask exactly and emit UV.(fixed 10sec)
    Observation
    See the completed sample through SEM
    Development
    ∙ Dip the sample in the alkaline solution.
    →(process parameter : 10sec 60sec 180sec)
    ∙ Due to differences in solubility of the exposed portion to be dissolved only.
    ∙ The process making patterning.
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