에칭(Etching)
- 에칭의 목적
연마가 끝난 시편의 미세조직(결정립, 입계, 게재물)을 자세히 관찰하기 위하여 필요하다.
- 에칭의 종류와 그 특성
화학에칭(Chemical etching)
산이나 알칼리의 선택 부식을 이용하는 것으로 시편의 재질에 따라 에칭액을 달리 사용한다. 에칭은 시편의 손상 부
리소그래피 기술의 개요
리소그래피는 포토마스크 기판에 그려진 VLSI의 패턴을 웨이퍼 상에 전사하는 수단이다. 포토레지스트(감광성 수지)의 도포에서 시작되어 스테퍼(노광장치)에 의한 패턴의 축소투영노광, 현상을 거쳐 포토레지스트를 마스크로 한 기판막을 에칭하고, 불필요해진 포토레지스트
에칭은 기본적으로 판상의 형태를 지닌 물체가 각종 외부 변화에 반응을 하여 깍이는 원리를 이용한다.
반도체 소자와 같이 기계적인 가공이 어려운 크기에 이용하고 변형, 피로, 균열 등이 생기지 않는 다는 점에서 유용하다.
Etching의 종류
알루미나 도가니에 성형체 2개를 넣고 질소97%, 수소3% 분
에칭 기술과 디지털 튜너, 소형모터 부문은 확고한 시장 지위와 경쟁력을 자랑한다. 아울러 소자소재 분야인 LED와 PCB에 대한 경쟁력 강화와 함께 차량 부품 시장에 진출하는 등 미래시장 동력을 확보해가고 있다.
2.1.1.1 오즈(OZ) 간판 조명용 LED(light emitting diode, 발광다이오드)채널모듈
2009년 4월 LG
▪ 잎 표면의 울퉁불퉁한 돌기
– 발수성 코팅제로 코팅되어있는 돌기
▪ 진동이 생기기 쉬운 구조
- 진동이 물방울과 잎 표면 사이의
부착력을 극복할 수 있는 에너지를 공급
2. 소수성 코팅 처리
- plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) 방법 사용
1) 산소 플라즈마 처리 이후에 cha