To prevent silicon from agglomerating
→ should cool the solid quickly
Rapid cooling
→ large thermal gradient in crystal
Postulate K=20W/m K
Diameter of wafer: 10-20 cm
L (latent heat of fusion) = 340 cal/g
Temperature gradient in silicon CZ (dT/dx) : 100°C/cm
mobile phase로 이용되는 gas로, 유해하면 안 되기 때문에 inert하며, sample과 반응하면 안되기 때문에 unreactive하다. 대표적으로 He, Ar 같은 비활성기체나 H2, N2 등의 비극성 경량 기체가 많이 이용되며, TCD를 사용하는 경우는 thermalconductivity를 고려하여 좀 더 엄밀한 기준 하에 carrier gas를 고르게 된다.
1. Pump에서의 Cavitation (공동현상) 에 대하여 기술하고 이로 생길 수 있는 문제점과 그 방지책에 대해 논하시오
- Cavitation이란
유체가 넓은 유로에서 좁을 곳으로 고속 유입하거나 벽면의 요철, 만곡부 등으로 흐름이 직선적이지 못할 때 유체는 저압이 되고 포화증기압보다 낮아지면 기화되어 기포가
CAVITY
일정한 속도의 액체가 면적이 작은 부위(수축부 Vena Contracta)를 지날 때 유체의 속도(V)는 빨라지고 압력(P)은 떨어진다, 이때 액체압력이 그 액체의 증기압(Pv)보다 낮아지면 기포가 발생 Vapor 상태가 되는데 이것을 Cavity라 한다. 이 기포는 다시 압력이 상승함에 따라서 밸브Trim 이나 Body 내벽에서