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대학레포트
  • Photolithography를 이용한 pattern형성
    1.실험제목 : Photolithography를 이용한 pattern형성 2.실험목적 : Photolithography에 사용하는 각 공정의 원리와 공정시 주의점을 알 수 있다. 3.실험기구, 장비, 재료 : -Cr 증착된 기판 -Developer, Stripper, Cr etchant 4.Photolithography 공정 순서 Cleaning -> PR coating -> Soft Baking -> Mask align & Exposure -> Develop -> Hard baking -> Cr etch
    2013-12-23 | 1,200원 | 4p | 이용 공정 유리   Photolithography를 이용한 pattern형성
 
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