1.Photolithography
리소그래피는 포토레지스트를 도포하는 공정으로 시작해 노광, 현상, 에칭, 포토레지스트 제거에 이르는 일련의 프로세스이다. 현상까지를 레지스트 처리공정으로 하며, 에칭 공정과 분리해서 생각할 수도 있다. 현재, 패턴 노광은 레티클이라 불리는 마스크 기판에 의해 축소 투영 전
Pre- Gorbachev Soviet- Vietnames Discord
To answer the aforesaid question, we need evidence, above all, from the vietnamese and Russian archives, but it may also be useful to study the declassified reports of the East European Communist diplomats who were accredited to Hanoi in the 1980s. Namely, the Hungarian diplomats whose reports I read managed to collect an impressive amount of confiden
Ⅰ. 서 론
유창성장애는 일반적으로 말더듬(Stuttering)이라고 불리는 말장애의 한 종류이며 장애의 시작과 특성에 관해 많은 연구들이 진행되어 왔다. 그 이유는 유창성장애는 2세-5세 사이에 가장 많이 발생하게 되는데, 이 시기가 언어발달의 시기와 맞물리기 때문에 아동에게서 발생하는 비유창성(dis
투과전자현미경은 주로 시료의 내부구조나 단면을 관찰하는데 쓰이고 있다. 원리는 광학현미경과 비슷하다. 전자현미경에서의 광원은 높은 진공 상태(1x10-4 이상)에서 고속으로 가속되는 전자선으로 이 전자선이 표본을 투과하여 형광판이나 사진필름에 초점을 맞추어 투사된다. 이 전자의 파장은 가
접촉각(water contact angle)과 관련이 있으며, 표면이 약 7 0°의 접촉각을 가질 때 섬유아세포가 가장 많이 부착 증식한다고 보고하였다. Crystal 등도 세포부착반응은 대상재질의 계면자유에너지 (interfacial free energy)와 관련이 있으며, 친수성PHEMA (poly-hydroxyethylmethacrylat e)처럼 에너지가 5 erg/㎠ 미만이거나 소수