Crosstalk among neighboring interconnects
Capacitive crosstalk roughly proportional to kc=CIMD /CILD
⇒ Mainly fixed by the aspect ratio of lines and vias
⇒ Crosstalk level increases at each new generation
Induces delay uncertainty
A low-κ dielectric materials with a dielectric constant less than the dielectric constant of silicon dioxide, κ<4
First low-κ was applied at the
4. Equipment
4.1 RCA cleaning
RCA cleaning is a series of rinsing procedure prior to experiment with Si wafer. The purpose of the RCA clean is to remove organic contaminants (such as dust particles, grease or silica gel) from the wafer surface. There are three steps to be performed. The first step is to remove organic contaminant from surface of wafer. Second step is to remove any oxide layer
3.1.1. 이상적인 MOS Capacitor
실제로 MOS Capacitor가 받는 표면효과는 매우 복잡하다. 이상적인 MOS Capacitor는 이런 표면효과를 무시한 것이다. 이런 MOS Capacitor는 변형된 일함수 을 사용하는 것이 편리하다. 일함수 이란 금속의 페르미 준위부터 산화물의 전도 대역까지의 크기를 말한다. 이 때 페르미 준위
LCR meter
LCR 미터는 고분자의 유전상수를 측정할 수 있는 장치이다. LCR미터의 측정원리를 알아보고, 측정용도와 사용방법에 대해 간단히 알아 보도록 하겠다. 그리고 주어진 과제를 통해 PDMS의 유전상수를 예측하는 과정에 대해 논해보고 유전상수를 줄이므로 해서 얻어지는 이점과 더불어 이를 공학적