1.Photolithography
리소그래피는 포토레지스트를 도포하는 공정으로 시작해 노광, 현상, 에칭, 포토레지스트 제거에 이르는 일련의 프로세스이다. 현상까지를 레지스트 처리공정으로 하며, 에칭 공정과 분리해서 생각할 수도 있다. 현재, 패턴 노광은 레티클이라 불리는 마스크 기판에 의해 축소 투영 전
electron beam)을 표본의 표면에 주사한다. 주사된 전자선이 표본의 한 점에 집중되면 일차전자만 굴절되고 표면에서 발생된 이차전자는 검파기(detector)에 의해 수집되어 그 결과 생긴 신호들이 여러 점으로부터 모여들어 음극선관(cathod ray tube)에 상을 형성한다. 주사전자현미경의 특징은 초점이 높은 심도
ML2 means the maskless lithography. It is necessary to refinement process. Described above, "double / mutiful patterning" in additional cost savings as an alternative to be appropriate. Nano devices with decreasing the size of the unilateral use light to produce a mask for the lithography process takes time and cost. Small production of nano scale patterning process is suitable, and the suitable
1. Introduction
1) Definition of preservation and food-spoilage micro-organisms
Food preservation is the process of treating and handling food to stop or greatly slow down spoilage (loss of quality, edibility or nutritive value) caused or accelerated by micro-organisms. Some methods, however, use benign bacteria, yeasts or fungi to add specific qualities and to preserve food (e.g., cheese, wine
contacted two professors: Professor Yehoon Lee and Professor Heejune Ahn from Seoul National University of Technology. The first interviewee, Prof. Yehoon Lee is an associate professor in the Department of Electronic and Information Engineering, whose major and research interests are mobile wireless communication, broadcast communication, CDMA/OFDM Modem, an theories on digital communication. He