An ionbeam is a type of An ionbeam is a type of particle beam consisting of ions.
Ionbeams have many uses in electronics manufacturing (principally ion implantation) and other industries.
아르곤 이온은 위의 과정으로 생성 됩니다.
전자기 코일 또는 영구 자석으로부터 얻은 자기장은 종종 전자의 소용돌이를 만들기 위해 양극과 음극 사
- 가장 보편화된 나노기술현재 인간이 가지고 있는 보편화된 기술 중 가장 미세한 구조물을 만들어내는 방법이 있다면 그것은 포토리소그래피일 것이다.포토리소그래피는 실제 전자집적회로> 제작에 사용되는 기술로써 그 원리는 다음과 같다.크롬층과 유리기판의 맨 위에 놓인 감광고분자 막 위에 레
High vacuum should be kept in
the chamber not to contain
oxigen
gas which damages
substrate surface
After reaching sufficient
vacuum, argon gas is added
into the chamber to generate
argon cation.
The gas ion have a collision on
the targeting material affording
to a electron emmition.
The electrons are deposited on
the surface of substrate forming
metalic
coating
Ion ImplantationIonized dopant atoms are physically forced into the silicon crystal by accelerating them through high potentials (3 kV- 3 MV) toward the silicon wafer.
– Mass separator allows each implanter to run multiple
processes (B, P, BF2, As...)
– Low temperature (room temperature ~200 °C)
• can use photoresist as a mask
– Needs to be followed by an anneal
1.Photolithography
리소그래피는 포토레지스트를 도포하는 공정으로 시작해 노광, 현상, 에칭, 포토레지스트 제거에 이르는 일련의 프로세스이다. 현상까지를 레지스트 처리공정으로 하며, 에칭 공정과 분리해서 생각할 수도 있다. 현재, 패턴 노광은 레티클이라 불리는 마스크 기판에 의해 축소 투영 전