IonImplantationIonized dopant atoms are physically forced into the silicon crystal by accelerating them through high potentials (3 kV- 3 MV) toward the silicon wafer.
– Mass separator allows each implanter to run multiple
processes (B, P, BF2, As...)
– Low temperature (room temperature ~200 °C)
• can use photoresist as a mask
– Needs to be followed by an anneal
An ion beam is a type of An ion beam is a type of particle beam consisting of ions.
Ion beams have many uses in electronics manufacturing (principally ionimplantation) and other industries.
아르곤 이온은 위의 과정으로 생성 됩니다.
전자기 코일 또는 영구 자석으로부터 얻은 자기장은 종종 전자의 소용돌이를 만들기 위해 양극과 음극 사
Implant
인공 치아 또는 제3의 치아라고도 한다. 치아의 결손이 있는 부위나 치아를 뽑은 자리의 턱뼈에 골 이식, 골 신장술 등의 부가적인 수술을 통하여, 충분히 감쌀 수 있도록 부피를 늘린 턱뼈에 생체 적합적인 임플란트 본체를 심어서 자연치의 기능을 회복시켜주는 치과 치료 술식이다. 정상적인
Ⅰ. 서론
치아를 상실하게 되면 ‘제3의 치아’인
임플란트를 시술하여 자연치를 대체하게 된다.
중략
1. Implant
인공 치아 또는 제3의 치아라고도 한다.
치아의 결손이 있는 부위나 치아를 뽑은 자리의 턱뼈에 골 이
식, 골 신장술 등의 부가적인 수술을 통하여, 충분히 감쌀 수
있도록 부