Ⅰ. 개요
오늘날 서구 학계(특히 사회과학 분야)에서는 질적방법이 점차 수용되고 있다. 이것은 사회의 복잡성이 하나의 관점으로 이해될 수 없음을 연구자들이 자각하게 되었다는 사실에 부분적으로 기인한다. 한국사회과학에서도 이러한 경향은 크게 눈에 띄는 것은 아니라고 하더라도, 양적방법
ML2 means the maskless lithography. It is necessary to refinement process. Described above, "double / mutiful patterning" in additional cost savings as an alternative to be appropriate. Nano devices with decreasing the size of the unilateral use light to produce a mask for the lithography process takes time and cost. Small production of nano scale patterning process is suitable, and the suitable
(4) Double patterning
The double patterning is divided into four parts, leading with wafer requirements and then two sets of lithographic requirements (Generic Pitch Splitting - Double Patterning Requirements Driven by MPU metal Half-Pitch and Generic Spacer Patterning Requirements - Driven by Flash). The lithography requirements are different for each process; the requirements for pitch splitti
Piezoelectric crystal, e.g. Quartz and PLZT (Pb, La,
Zr, TiOx) are well known for their sensitivity to
pressure on their crystal surfaces. In addition,
the oscillating frequency of a piezoelectrc crystal
decreases on adsorption of a foreign substance
onto its surface.
The variation of oscillating frequency is
proportional to the mass of foreign
molecules deposited on the crystal surf
1. 서론
나노 기술이란 ‘나노미터 크기의 물질들이 갖는 독특한 성질과 현상을 찾아내고 이러한 성질을 갖는 나노물질을 정렬시키고 조합하여 매우 유용한 성질의 소재, 디바이스 그리고 시스템을 생산하는 과학과 기술’을 말한다. Nano imprint lithography(이하 NIL)는 이러한 나노 기술을 이용하여 초미