1.Photolithography
리소그래피는 포토레지스트를 도포하는 공정으로 시작해 노광, 현상, 에칭, 포토레지스트 제거에 이르는 일련의 프로세스이다. 현상까지를 레지스트 처리공정으로 하며, 에칭 공정과 분리해서 생각할 수도 있다. 현재, 패턴 노광은 레티클이라 불리는 마스크 기판에 의해 축소 투영 전
Ⅰ. 광학과 근접장광학
나노 크기의 물체에 유도된 근접장 광을 측정하여 회절한계 이하의 공간분해능을 얻을 수 있는 광학현미경을 주사근접장 광학현미경(SNOM : scanning near-fieldoptical microscopy)이라고 한다. 예를 들어 나노 크기의 미세한 물체가 놓인 표면에 조사광을 쏘아주어 유도되는 물체의 근접
near-field diffraction)과 프라운호퍼 회절(Fraunhofer diffraction, far-field diffraction)이 있는데, 흔히 회절이라 하면 프라운호퍼 회절을 일컫는다. 프라운호퍼 회절 무늬를 계산해보면 입사하는 빛의 2차원 푸리에 변환이 되는 것을 알 수 있다. 따라서, Fast Fourier Transform(FFT)을 이용해서 회절 무늬를 쉽게 그려볼 수
optical memory)라 한다. 광을 이용하여 저장한다는 것은 광을 통해 정보를 기록하여 읽고, 재기록을 가능하게 하는 것을 말하며, 정보의 보존성 및 안전성이 크고 정보 저장의 신뢰성이 높기 때문에 광 정보저장 기술은 디지털 사진, 화상 등의 다양한 응용분야에 적용되고 있다.
2.광메모리 저장기술의
NF3 등을 생산하고 중공업부문은 전력, 기전, 풍력사업을 전개하고 있다.
최근 효성은 성장동력으로 탄소섬유, 폴리케톤 사업에 역점을 두고 글로벌 소재·화학기업으로 성장을 지속하기 위해 노력하고 있다.
2. 연혁
① 1960년 대 (1962~1969)
1962년 효성물산을 토대로 독자사업에 나선 만우 조홍제 회