Optical-lithography의 한계
광 리소그라피(Optical lithography)는 지난 20세기 말경에 크게 발전하여 대용량 반도체(VLSI)의 미세회로가공에 적용되는 중요한 핵심기술로 발전하였다. Optical-lithography 1980년대 초에 고압 수은등을 이용한 G-선(436nm 파장) 자외선의 축소투영 노광장치(projection stepper)의 도입으로 시작
1.Photolithography
리소그래피는 포토레지스트를 도포하는 공정으로 시작해 노광, 현상, 에칭, 포토레지스트 제거에 이르는 일련의 프로세스이다. 현상까지를 레지스트 처리공정으로 하며, 에칭 공정과 분리해서 생각할 수도 있다. 현재, 패턴 노광은 레티클이라 불리는 마스크 기판에 의해 축소 투영 전
교수매체의 유형
제1절 투사시각자료(Projeted Visuals)
1.투시물 환등기(Over Head Project)
▶수업자의 머리위를 넘어서 배후에 있는 스크린에
TP라는 투시자료를 확대 투영하는 기계
-장점 : 자료의 정리가 용이하다
조작이 용이하다
-단점 : 교사는 사전 교수계획에 의해서 사용해야함
TP의 내용이 복잡하
Ⅰ.정의적 영역이란
1.정의적 영역의 정의
인간은 여러 가지 다양한 상황 하에서도 어떤 전형적인 사고방식, 행동방식, 느낌의 방식 등을 나타내는 속성 또는 특질을 가지고 있다. 이들 특성들은 가끔 세 가지 주요 범주로 분류된다. 전형적인 사고방식을 나타내는 특성들은 인지적 특성(cognitive cha