resist for extreme ultraviolet (EUV) lithography requires a small line edge roughness (LER) and a high sensitivity.
Requirement of EUV resist can be explained below the figure. 4. we can summary the requirements of EUV resist with four points.
First, Resist sensitivity have to target 10mJ/cm2 to keep the required source power in a realistic target range of some 100W @ 100wph tput.
Second
조직의 변화는 이미 알고 있는 현재에서 미지의 미래로 나아가는 것이다. 행동을 계획하는데 있어서 핵심 과제는 구성원들로 하여금 어떻게 조직의 변화에 몰입 할 수 있도록 할 것인가 하는 것이다.
1. 적극적인 변화 수용 자세의 창출 (Creating Readiness for Change)
OD에서 가장 근본적인 원리중의 하나
1. 스마트 그리드란?
지능형전력망(Smart-Grid)에 대한 정의는 여러 기관에서 약간의 차이를 보이고 있으나 가장 대표적이고 공통적인 정의로 지능형전력망에 대한 기술표준문제를 다루고 있는 IEC(국제전기위원회)의 SG3(전략그룹에서 소개한 현대화된 전력망(또는 전력계통)이다.
이는 정보통신(IT)기
Ⅰ. 의료시장개방의 흐름
1. 경제자유구역법
현재 정부는 경제자유구역을 통한 의료산업활성화방안을 고민하고 있다. 특히나 지난 총선결과에서 볼 때, 노무현 정권의 시장개방정책은 더욱 탄력을 받게 될 것이며, 지금까지의 법제도적 변화의 흐름을 강력하게 추진해나가려고 할 것이다. 위에서