서 론
소프트렌즈, 하드렌즈, 미용렌즈 등의 콘택트렌즈 사용자의 수가 급증하면서 그에 따른 안질환 발생 빈도가 증가하고 있다. 콘택트렌즈 세척, 보관 등의 관리 과정의 오염과 그로 인한 세균의 감염 정도에 따라 가벼운 각막염부터 심각한 안질환까지 수많은 종류의 안질환이 야기된다. 비교적
The lens is used to focus the sectioned UV light down to a smaller area on the chip. The smallest feature size capable of being written on the wafer is a function of the numerical aperture of the lens as well as the wavelength of the light.
uses a patterned elastomer(e.g. PDMS(Poly DiMethyl Siloxane)) as the stamp, mold, or mask to generate micro-patterns and microstructures
C
Soft Lithography with Sub-15nm Resolution by Zhiwei Li, Yanni Gu, Lei Wang, Haixiong Ge, Wei Wu, Qiangfei Xia, Changsheng Yuan, Yanfeng Chen, Bo Cui, and R. Stanley Williams. NANO LETTERS 2009 Vol.9, No.6 2306~2310"
Article : To achieve high resolution patterning
Soft lithography commonly uses PDMS to stamp. It enables a conformal contact with substrates or the master mold over a large area
1.Photolithography
리소그래피는 포토레지스트를 도포하는 공정으로 시작해 노광, 현상, 에칭, 포토레지스트 제거에 이르는 일련의 프로세스이다. 현상까지를 레지스트 처리공정으로 하며, 에칭 공정과 분리해서 생각할 수도 있다. 현재, 패턴 노광은 레티클이라 불리는 마스크 기판에 의해 축소 투영 전
투과전자현미경은 주로 시료의 내부구조나 단면을 관찰하는데 쓰이고 있다. 원리는 광학현미경과 비슷하다. 전자현미경에서의 광원은 높은 진공 상태(1x10-4 이상)에서 고속으로 가속되는 전자선으로 이 전자선이 표본을 투과하여 형광판이나 사진필름에 초점을 맞추어 투사된다. 이 전자의 파장은 가