1. 실험 목적
어떤 구조물을 힘을 받으면 그 구조물은 변형을 일으키게 된다. 여기서 의문점이 일어나는데 과연 얼마만큼의 힘을 받으면 얼마만큼의 변형을 일으키게 되는가 하는 것이다. 각 재료마다 견딜 수 있는 힘이 다를 것이고 또 길이나 다른 요인들에 의해서도 영향을 받을 것이다. 이번 실험은
1.Photolithography
리소그래피는 포토레지스트를 도포하는 공정으로 시작해 노광, 현상, 에칭, 포토레지스트 제거에 이르는 일련의 프로세스이다. 현상까지를 레지스트 처리공정으로 하며, 에칭 공정과 분리해서 생각할 수도 있다. 현재, 패턴 노광은 레티클이라 불리는 마스크 기판에 의해 축소 투영 전
이론을 이해한다.
2. 실험 종류
1) 외팔보의 처짐
2) 단순 지지보의 하중 - 변위 상관도
3) 단순보의 지간과 처짐 상관관계
4) 처짐의 형상 측정 곡률 반경
3. 기초이론
3.1 보의 휨 곡선(deflection curve of beam)
그림 4.1과 같은 단순보에 하중 P를 가하면, 보의 중심선 AB는 곡선 ACB로 변형된다.
이
이나 생물학적 표본에서 사용되는 분해능은 약 0.14 ~ 0.20nm이다. (참고로 1nm는 10억 분의 1m이다) 주사전자현미경은 주로 시료의 표면을 관찰하는데 쓰인다.
원리는 투과전자현미경과는 다소 다르다. 주사전자현미경은 전자가 표본을 통과하는 것이 아니라, 초점이 잘 맞추어진 전자선 (electron beam)을 표