위한 공정도
이 임프린트 리소그래피 공정은 기존의 다른 나노 패터닝 기술(포토 리소그라피, 전자 빔 리소그라피 등)처럼 고가의 장비가 필요 없고, 공정 시간이 짧게 걸리는 장점이 있다. 이러한 NIL공정의 해석에 있어서 온도 제어와 폴리머 소재의 힘과 에너지를 표현하는 force field의 구현이 중요
1. Pump에서의 Cavitation (공동현상) 에 대하여 기술하고 이로 생길 수 있는 문제점과 그 방지책에 대해 논하시오
- Cavitation이란
유체가 넓은 유로에서 좁을 곳으로 고속 유입하거나 벽면의 요철, 만곡부 등으로 흐름이 직선적이지 못할 때 유체는 저압이 되고 포화증기압보다 낮아지면 기화되어 기포가
위하여 여러가지 형태의 리소그래피 기술들이 제안되어 연구되고 있다.
이 보고서에는 리소그래피의 종류와 문제점 및 해결 방안을 찾아보고 그 대체의 기술로 주목받고 있는 나노임프린드 리소그래피,
주형과 도장 방식을 이용한 나노 구조물 제작에 대하여 알아보고, 현재 기술의 장벽을 뛰어
Thermal NOx
Thermal NOx는 연소용 공기중에 함유되어 있는 N2가 고온에서 산화되어 발생되는 질소산화물로 NOx의 생성속도는 온도에 매우 민감하여 1,000℃이상에서 발생되며 온도가 증가할수록 생성속도는 급격히 증가한다. Thermal NOx의 생성반응식은 다음과 같다.
N2 + O ↔ NO + N -------- (5)
N + O2 ↔ NO + O ---
Thermal evaporator라고 부릅니다. 반도체 소자를 만드는 일련의 공정을 반도체 공정이라고 합니다. 이 반도체 공정은 산화공정, Diffusion 공정, 이온주입공정, 화학기상증착공정, 사진식각공정, 금속공정으로 나누어집니다. 이 중에 특히 금속공정은 소자의 올바른 작동을 위하여 전압이나 전류의 인가가 가