나노 디바이스의 집적도를 향상시키기에는 공정상의 한계가 생기기 마련이며, 이에 따른 막대한 비용문제도 발생하게 된다. 반면, 이번에 소개할 나노임프린트 리소그래피(NanoImprint Lithography)는 열 또는 UV를 소스(source)로하여 레지스트(resist)의 유동성을 이용해서 나노 사이즈의 패턴을 전사하는 방법
공정해석을 위한 공정도
이 임프린트 리소그래피 공정은 기존의 다른 나노 패터닝 기술(포토 리소그라피, 전자 빔 리소그라피 등)처럼 고가의 장비가 필요 없고, 공정 시간이 짧게 걸리는 장점이 있다. 이러한 NIL공정의 해석에 있어서 온도 제어와 폴리머 소재의 힘과 에너지를 표현하는 force field의
종류와 문제점 및 해결 방안을 찾아보고 그 대체의 기술로 주목받고 있는 나노임프린드 리소그래피,
주형과 도장 방식을 이용한 나노 구조물 제작에 대하여 알아보고, 현재 기술의 장벽을 뛰어넘기 위하여 어떤 연구를 행하고 있는지 살펴보며 기술의 현황 및 전망에 대해 알아보고자 한다.
1.Photolithography
리소그래피는 포토레지스트를 도포하는 공정으로 시작해 노광, 현상, 에칭, 포토레지스트 제거에 이르는 일련의 프로세스이다. 현상까지를 레지스트 처리공정으로 하며, 에칭 공정과 분리해서 생각할 수도 있다. 현재, 패턴 노광은 레티클이라 불리는 마스크 기판에 의해 축소 투영 전
1. 개요 : 개요와 목적
최근의 다양한 스마트 기기의 발전과 더불어 화면표시 기술, 즉 디스플레이 테크놀러지가 각광 받고 있다. 이는 디스플레이 기술이 단순히 고객에게 보여주는 시각적인 부분이 뿐 아니라, 기기 자체의 성능(화질, 응답속도, 배터리 소모량 등)과 제품 단가(생산 공정단가 등)를