4. Equipment
4.1 RCA cleaning
RCA cleaning is a series of rinsing procedure prior to experiment with Si wafer. The purpose of the RCA clean is to remove organic contaminants (such as dust particles, grease or silica gel) from the wafer surface. There are three steps to be performed. The first step is to remove organic contaminant from surface of wafer. Second step is to remove any oxide layer
나노복합재료연구실 ( Nano Composite Research Lab.)
1. Purpose of this study
■ Measurement of Young's modulus using sonic resonant test
■ Measurement of Young's modulus using beam bending test
2. Introduction
Young's modulus is one of the important materials properties that is related with the bonding force between atoms or ions in materials. That will give a cle
1. 실험명 : BeamTest
2. Beam 실험관련이론
빔은 단지 모멘트가 적용되는 평면에서 가해지며, 빔의 응력 분포와 응력 곡률은
(1.1)
이 식에 의해 연관된다.
M : 굽힘 모멘트
I : 빔 절단공간의 2차 모멘트
E : 탄성계수
R : 곡률반경
f : 중립축으로부터 거리 y까지의 굽힘 응력
이것은 또한 빔의 굽힘이
체조의 역사
체조는 영어로 Gymnastics, 독일어로는 Gymnastic이라고 하며 어원은 그리스어의'나체(gymnos)'에서 유래한다.
고분 벽화나 문헌을 통해서 볼 때, 체조는 기원전 2500년경에 중국, 인도 등에서 건강을 위한 의료적 보건 체조로 발달하였으며, 고대 이집트에서는 오늘날의 체조에 가까운 형태로