기체나 물의 이동이 적어야 하며 기계적 및 화학적 안정성이 높아야 한다.
고분자 전해질 막은 1959년 Grubb에 의해서 처음으로 연료전지에 도입된 후 1980년대에 들어서 활발한 연구에 의해 성능향상이 많이 이루어졌다. 고분자 전해질 막은 sulfonic acid 기를 포함하고 있는 고분자 구조로 되어 있으며, sulf
instrument composition
-Electric furnace
Temperature range:
25°C~1500°C
Heat speed :
Maximum 200°C/min
*Separate Electric furnace and other system like Electronic scale
-Because Electric furnace temperature is very high
so we need to protect other system.
instrument composition
-Electric furnace
Temperature range:
25°C~1500°C
Heat speed :
Maximum 200°C/min
*N
적당해야됨
2. 미소 신호 검출을 위한 고감도의 증폭장치(SENSE AMP.)
3. 주기적인 REFRESH가 필요함.
FAB제조 공정 예 (완성품 단면도 - 64M LF)
CVD 공정개요:
막 형성에 필요한 물질을 기체상태로 반응실에 도입시켜 적절한 반응조건하에서 물질의 화학반응을 통해 Wafer상에 박막을 형성하는 공정
▶ 기 기
흡광 광도 법에서 빛의 흡광도를 측정하는 기구를 분광광도계(Spectrophotometer)라 한다.
기기에는 크게 ‘광원, 파장선택장치, Cuvette holder와 sample compartment, 검출기)와 지시기’가 있다.
-분광 광도계의 구조
① 광원(light source) : 시료 중의 흡광물질 농도를 측정하는데 필요한 파장의 빛을 일