metal contaminants.
The RCA clean procedure should be performed immediately prior to any crucial step, especially those involving high temperatures. For safety reasons, all activities in the RCA clean procedure should be performed in a Clean Station Work Area which is located under an exhaust fume hood.
[Figure 1] RCA cleaning
the RCA clean proceedure consists of the
[Anode material]
The potential that is close the standard electrode potential of Li.
High energy density per volume & weight
Excellent cycle stability (Coulomb effeciency)
Have to endure rapid charging or discharging
Stability
.
.
.
[High Voltage]
[Pollution-Free]
[long cycle life]
[No Memory Effect]
[Safer than Lithium ion battery]
[lower internal resistivity]
[advantageous
ion Sources
To Vacuum Pumps
electron gun
그림2. E-beam장치의 구조도
② Thermal Evaporator
각종 금속(Au, Al, Ti, Cr, In, Ni)과 유전체(SiO2)의 박 막을 기판 위에 증착할 수 있는 장비이다. 진공도는 Torr까지 얻을 수 있다. 박막 증착시에는 박막 두께 측정 센서를 통해 박막의 두께를 확인하며 공정을 진행할
② Thermal Evaporator
각종 금속(Au, Al, Ti, Cr, In, Ni)과 유전체(SiO2)의 박 막을 기판 위에 증착할 수 있는 장비이다. 진공도는 Torr까지 얻을 수 있다. 박막 증착시에는 박막 두께 측정 센서를 통해 박막의 두께를 확인하며 공정을 진행할 수 있다. 박막은 보통 0.5 Aring/sec ~ 1.0 Aring/sec의 증착 속도로 증착을 하
이루어진다. ingot의 양에 증착되는 film의 양을 control 할 수 있으며 열전자를 사용하기 때문에 융점이 높은 물질도 쉽게 증착 할 수 있는 장점이 있다.
electron beam
To Vacuum Pumps
vapor stream
substrate holder
Three Ingot Feeders
Four Independent
ion Sources
To Vacuum Pumps
electron gun
그림2. E-beam장치의 구조도