있던
액정이 TFT GLS의 PXL과 CF GLS의
ITO 사이에 형성된 전계에 따라 특정
배열을 갖으면서, BLU에서 들어오는
빛만큼을 화면으로 전달
1-1) TFT 공정 Flow - 4Mask 기준
TFT 공정 Flow는 4Mask 공정에 따라 이뤄지며, Photo, Wet-Etch, Strip 공정에서 세정목적으로 IPA 사용됨
Ⅰ. 문헌고찰 - 전치태반(Placenta Previa)
1. 전치태반의 정의와 분류
(1) 정의 ① 태반이 자궁목의 속구멍(internal os)에 매우 근접해 있거나 덮고 있을 때
(2) 분류
① 전전치태반(Total placenta previa)
ㆍ Internal os에 태반에 의해 완전히 덮여져 있는 경우
② 부분전치태반(Partial placenta previa)
ㆍ Internal os에 태반
Ⅰ. 문헌고찰 - 전치태반(Placenta Previa)
1. 전치태반의 정의와 분류
(1) 정의 ① 태반이 자궁목의 속구멍(internal os)에 매우 근접해 있거나 덮고 있을 때
(2) 분류
① 전전치태반(Total placenta previa)
ㆍ Internal os에 태반에 의해 완전히 덮여져 있는 경우
② 부분전치태반(Partial placenta previa)
ㆍ Internal os에 태반
1. Memory의 정의
메모리는 데이터를 기억하는 장치로서 반도체 칩은 크게 메모리분야와 비 메모리 분야로 나뉜다. 메모리 분야에서 대표적인 것은 DRAM으로서 대량생산을 통한 원가절감으로 상대적으로 가격이 싸면서도 범용으로 사용할 수 있는 칩이며 비 메모리 분야는 ASIC으로 원하는 기능만을 집어
1. 실험목적
산・염기 적정의 목표는 농도를 알고 있는 어떤 성분들을 미지 농도의 용액 내에 있는 다
른 성분과 반응시켜 미지 용액의 농도를 알아내는 것으로 Na2CO3 및 NaHCO3 혼합물의 정량은 염기의 시료를 가지고 산의 표준용액으로 반응시켜 반응종말점까지 들어간 부피로부터 Na2CO3 와 NaHCO3