Making the Wafer
The process
-A seed crystal is suspended in a molten bath of silicon
-It is slowly pulled up and grows into an ingot of silicon
-The ingot is removed and ground down to diameter
-The end is cut off, then thin silicon wafers are sawn off (sliced) and polished
Epitaxy
The growth of an ultra-pure layer of crystalline silicon
Approx 3% of wafer thickness
Contaminant-free
1. LCD(Liquid Crystal Display)의 정의
인가전압에 따른 액정의 투과도의 변화를 이용하여 각종 장치에서 발생되는 여러 가지 전기적인 정보를 시각정보로 변화시켜 전달하는 전자 소자이다. CRT와는 달리 자기발광성이 없어 후광이 필요하지만 동작 전압이 낮아 소비 전력이 적고, 휴대용으로 쓰일 수 있어
코덱이란 영상이나 음성 등의 신호를 펄스 부호 변조(PCM)를 사용하여 전송에 적합한 디지털 방식으로 변환하여, 역으로 수신측에서 디지털 신호를 아날로그 신호로 변환하는 즉 동영상이나 소리 등을 인코딩 또는 디코딩 할 수 있는 하드웨어나 소프트웨어를 일컫는다. 또 그 알고리즘을 가리키는 용어
PLC원리
광섬유기술과 대규모 직접회로(LSI) 제조 기술의 조합에 의하여 실리콘 기판상에 그림과 같이 광도파로를 형성하는 평면 광판 회로를 도입해서 필요한 소자를 기판에 평탄하게 부착, 배치하는 기술
광섬유 제조에 사용되는 것과 동일한 원료 가스를 사용하여 실리콘 기판상에 투명도가 매우
planar and non-planar surfaces, and generate both 2D and 3D structures, while photo-lithography only on planar surface and 2D structures. Also, it doesn't need to use light or other high energy particles. Photo-lithography can be applied to only polymers with photo-sensitive, but soft lithography can be applied to various polymers, like unsensitized polymers, precursor polymers, conducting polyme
단결정 제조 조건
고액계면 및 그 전방에서 새로운 핵생성이 일어나지 않을것
→결정의 성장속도(R) 느리게 유지
온도구배 항상 Positive
온도구배를 가능한 크게 유지하여
Planar interface 유도
.
.
.
1.Czochralski
석영이나 흑연 도가니 사용
고주파나 저항 가열체로부터 가열
Seed Crystal을 용액 표면과
2. (40 pts) Give the initial state, goal test, successor function, and cost function for each of the following. Choose a formulation that is precise enough to be implemented.
A. You have to color a planar map using only four colors, in such a way that no two adjacent regions have the same color.
=> 처음에는 어느 곳도 색이 칠해져 있지 않으므로 아무 곳이나 지정하여 4
트랜지스터의 구조
바이폴라 접합 트랜지스터
BJT(Bipolar Junction Transistor)
에피택셜 플래너(epitaxial planar) 구조
두 개의 pn 접합으로 나누어지는 도핑된 세 개의 반도체 영역으로 구성
이미터(emitter), 베이스(base), 컬렉터(collector)
2-2. ICP
1) ICP 정의
아르곤(Ar)을 플라즈마 가스로 이용하여 고주파 발생기로부터 발생된 주파수(2.45GHz) 영역에서 유도코일에 의해 발생된 플라즈마 발생소스에는 평판형(planar)(와선형), 나선형(helical)(실린더형)
이 있다.
2) ICP의 원리
Coil에 고주파 가하면 자기장 발생
챔버 주위로 원형의