Ⅰ. 개요
급격한 경제 성장과 더불어 대두된 도시화는 인구의 집중화, 주택난, 교통체증, 토지문제, 교육, 문화, 행정, 정치, 산업, 공해문제를 만들어냈다. 이 중 주택난은 인간의 기본생활인 주생활에 문제를 가져왔다. 주택의 양적 부족을 해결하기위하여 주택공급의 확대라는 측면에서 1974년 이후
2.3 C-V graph
The measured MOS capacitance (called gate capacitance) varies with the applied gate voltage.
① Measurement of C-V characteristics
-Apply any DC bias, and superimpose a small (15 mV) ac signal
-Generally measured at 1 MHz (high frequency) or at variable frequencies between 1KHz to 1 MHz
-The dc bias VG is slowly varied to get quasi-continuous C-V characteristics
② C-V chara
4. Equipment
4.1 RCA cleaning
RCA cleaning is a series of rinsing procedure prior to experiment with Si wafer. The purpose of the RCA clean is to remove organic contaminants (such as dust particles, grease or silica gel) from the wafer surface. There are three steps to be performed. The first step is to remove organic contaminant from surface of wafer. Second step is to remove any oxide layer
and is operationally apparent in the procedures adopted by the individual airports. National policy is translated into a national security plan or overall security program, a necessity if airports and government wish to do other than react post hoc to a security incident. The national plan is implemented by the provision of staff, equipment and training at the airports and other sensitive aviatio
1.Photolithography
리소그래피는 포토레지스트를 도포하는 공정으로 시작해 노광, 현상, 에칭, 포토레지스트 제거에 이르는 일련의 프로세스이다. 현상까지를 레지스트 처리공정으로 하며, 에칭 공정과 분리해서 생각할 수도 있다. 현재, 패턴 노광은 레티클이라 불리는 마스크 기판에 의해 축소 투영 전