어떻게?
① Metal을 이용
☞ Contact Resistance ↓, but Transmittance ↓
② Graphene을 이용
☞ Transmittance ↑, but Contact Resistance ↑
③ Metal/Graphene layer를 이용
☞ Transmittance ↑, Contact Resistance ↓
④ Patterned metal + Graphene을 이용 !! ↕:Good
☞ Transmittance ↑↑, Contact Resistance ↓↓ ↕: Bad
3. Requirements of EUV resist
EUV is highly absorbed by all materials, even EUV optical components inside the lithography tool are susceptible to damage, mainly manifest as observable ablation. Such damage that is associated with the high-energy process of generating EUV radiation is a new concern specific to EUV lithography .
EUVL's shorter wavelength also increases flare, resulting in less
가공이 필요해 비싼 가격이 문제가 된다. 또한 일정 이상의 두께가 요구되어 부피가 커지고, 대량생산의 어려움등의 단점을 가진다. 이런 graphite 재료의 대체를 위해 , 고분자 복합체를 이용한 bipolar plate의 제작 연구가 필요하다.
c. Polymer composite bipolar plate를 사용할 때에 GDL과의 contact resistance를
We investigated graphene-based transparent electrodes for InGaN/GaN light emitting diodes(LED). Nano-dotted layer of Ag and Ni were inserted between p-GaN and graphene to achieve low contact resistance and high transmittance. Heat treated Ag layer/graphene had low contact resistance of 0.7~1.2Ω/cm2, and we could achieve better luminance for GaN-based LED. However, for patterned Ni layer/graphene
resistant enterococci,VRE)의 출현과 이의 급속한 전파로 인하여 전세계적으로 심각한 문제가 되고 있다.
따라서 Enterococci는 사람의 정상균총으로 자리잡고 있지만, 최근 중요한 병원균(pathogen)으로 인식되고 있는데, Centers for Disease Control and Prevention`s(CDC`s) National Nosocomial Infections Surveillance(NNIS) program의 자료를