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대학레포트
[나노기술] 리소그래피의 종류와 문제점 및 해결 방안 -Nano Imprint Lithography
1. 서론 지난 30년간 리소그래피 기술은 반도체 소자의 발전과 더불어 광 투사 리소그래피(Optical Projection Lithography) 기술을 중심으로 지속적인 발전을 거듭하였다. 그리하여 지금 193 nm의 광 투사 리소그래피를 이용하여 100 nm 이하의 선 폭을 형성할 수 있는 수준에 이르렀다. 그러나 반도체 기술은 앞으
2006-09-25 | 2,100원 | 28p |
리소그래피 프린트 스탬프 기술 나노 nm 나노임 구조물 임프린트 공정
[나노기술] 리소그래피의 종류와 문제점 및 해결 방안 -Nano Imprint Lithography
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