※ Results
L-2 Norm 취한 결과
------------------Margles---------------------
Delta_r 의 Sum = 0.664
Delta_G 의 Sum = 0.052
------------------Van_Larr---------------------
Delta_r 의 Sum = 0.575
Delta_G 의 Sum = 0.044
------------------Willson_eq---------------------
Delta_r 의 Sum = 0.530
Delta_G 의 Sum = 0.037
------------------NRTL_Eq---------------------
Delta_r 의 Su
1. 서 론
대부분의 영역에서 과학이 해왔던 일은, 우리 주변에서 일어나는 일들을 어떻게 설명할 수 있는가에 초점을 두었었다. 이를 위해 복잡해 보이는 여러 가지 현상들을 가능한 한 간단한 형태로 바꾸어 기본적인 원리를 알아내고자 하는 작업들이 꾸준히 진행되어 왔었다. 화학의 영역도 여기
MOCVD : MOCVD 란 금속유기원료 (Metal Organic Source)를 이용하여 막을 형성시키는 방법으로 precursor의 분해온도가 낮다. MOCVD의 장점은 성막 속도가 빠르고, Step Coverage가 우수하며, 막 조성 및 성막 속도 제어가 가능하다. 또한 기판이나 결정표면의 손상이 없는 장점이 있다. 단점으로는 Source와 반응 가스들 중
현재 핵심 반도체 소자는 소형화, 집적화를 통한 고성능화를 요구하고 있다[1,2]. 이에 따라 0.1㎛ 이하의 초미세 가공 기술이 요구된다. 또한 칩의 성능은 RC delay에 크게 영향을 받게 되는데, 이의 해결을 위해 지금까지 사용되어 왔던 알루미늄선을 구리선으로 대체하여 금속선의 저항(R,resistance)을 감소