2. 이론
Pattern 공정을 하기 위해서는 주변의 청정도가 매우 중요한데, 아래 그림에서 보는 것과 같이 Clean room 에서 빛에 노출되지 않는 환경을 구비한 후 공정을 시작하여야 한다.
◦ Cleaning & Wet-Station 의 중요성
모든 반도체 공정은 오염물들의 근원이고 이는 소자의 성능과 수율에 직접적인
1. 리소그래피(Lithography)의 정의
노광 기술(Lithography 기술)은 마스크(mask)상에 설계된 패턴을 웨이퍼 상에 구현하는 일종의 사진기술로서 마스크 형상을 웨이퍼에 전달하는 매체로 빔, 전자, 이온 등을 사용한다.
기판인 웨이퍼 위에 원하는 패턴을 구현하는 기술
2. 전통적인 리소그래피의 정의
리소
이 실험은 Wetted Wall Column을 이용하여 물과 공기를 접촉시켜 그 농도차로부터 물질전달 계수를 계산하는 것이다. Wetted Wall Column은 물질전달이 일어나는 경계면이 뚜렷하며, 그 면적을 계산하기 쉽다는 점에서 물질전달 계수를 계산할 수 있는 명확한 방법이 된다. 물속에서 산소의 확산계수를 구함으로
습식 세정 공정은 1970년대 개발된 RCA 세정 방법을 근간으로 화학액의 조성에 큰 변화없이 사용되고 있다. RCA세정은 암모니아인 염기성을 주로 사용하는 SC1과 염산인 산성 용액을 사용하는 SC2 세정 방법으로 나눌 수 있다. RCA세정 공정 중 SC1 (Standard Clean-1, APM) 세정 공정은 암모니아, 과산화수소 그리고