5) X-선관의 주요 성능지표
① 관전압 인가 최대 전압 뼈 등과 같이 밀도가 높은 부분 두꺼운 부분을 촬영할 때는 높은 관전압이 필요 : ,
② 관전류 인가최대전류며 단위 관전류가 크면 필라멘트에서 더 많은 전자가 방출되고 따라서 저지극에 충돌하는 : mA ,
전자의 수도 증가하여 방출되는 선량이
1. etching이란 무엇인가?
Etching의 기본 목적은 광학적으로 Grain크기, 상 등의 미세조직을 관찰하기 위한 과정이다. etching은 화학조성 응력 결정구조 등에 따라 방법이 다른데 가장 일반적인 방법은 화학부식 방법이며 목적에 따라 용융염방법, 전해부식, 열 및 plasma 부식 방법 등이 쓰인다. 본 실험에서
1.제목
중첩의 원리
2.목적
여러 개의 전원을 갖고 있는 회로에서 중첩의 원리를 이용하여 회로를 해석하는 방법을 이해시킨다.
3.관련이론
이번 실험은 중첩의 원리를 이해하고 회로를 구성해보고 전류를 측정하고 계산값과 비교해 보는 실험인 것 같습니다. 일단 중첩의 원리란 무엇인가에 대
복잡한 회로를 쉽게 해석하는 데 여러 가지의 방법들이 있다. 이 중 여러 개의 독럽 전원이 있고 소자들이 저항과 인덕터, 커패시터 등과 같은 선형소자인 경우 중첩의 정리를 사용하면 회로의 전류나 전압을 쉽게 구할 수 있다. “여러 개의 독립 전원이 있는 선형 회로(선형소자를 사용한 회로)에서 임