결정화
- CGS(Continuous Grain Silicon)
<저온다결정Si 형성방법>
● 레이저에 의한 저온다결정Si 형성 기술
○ 펄스레이저 혹은 연속레이저 의해 비정질 혹은 다결정Si을 녹인 후 재결정화 시키는 방법으로 일반적으로 ELA가 응용되고 있으며, ELA를 응용한 GLC기술, 입자 배열 조절 기술, SLS
레이저결정화 공정, 이온주입 및 활성화 공정 등이 추가되어 공정비용 증가
- 공정의 균일성, 안정성 등이 문제
③고온폴리 실리콘 TFT LCD
- 기존의 반도체 웨이퍼를 이용한 공정을 그대로 도입할 수 있기 때문에 TFT 소자의 특성이 양호 하면서도 안정되어 있다.
- 결정성이 양호한 poly-si 제
싸게, 그리고 크게 만들 수 있는 기술이 아니기 때문이다. ELA/Evaporation/Glass encapsulation은 3.5세대와 5.5세대 양산라인에서의 표준화 공정으로 자리잡았다. 이들 공정은 오랜 기간동안 양산 노하우를 쌓아온 만큼 수율 및 신뢰성은 안정적이지만 대형화가 어렵고 원가 부담이 크다 한계점을 가지고 있다.
TFT LCD의 주요 적용 제품은 노트북, 데스크탑 모니터, 휴대폰액정, TV등에 대부분 적용되고 있다.
현재 TFT LCD 응용시장은 현재 노트북PC과 데스크톱 모니터용이 전체 공급 수요의 80%대에 이르며 양대 시장을 형성하고 있으나 올해를 기점으로 LCD TV용 제품이 본격적인 시장을 형성하고 있으며 게임기와
OLED의 발광 원리
① 양극과 음극전극에서 유기층으로
캐리어(정공 또는 전자)를 주입
② 이들 캐리어가 전자는 음극에서 전도대로,
정공은 양극에서 가전자대로 이동
③ 주입된 전자와 정공이 발광층 내에서
전자-격자 상호작용으로 polaron 생성
④ 양성 및 음성 polaron이 전기장하에