1) Raising Hot Melts to a New Level of Performance
최근 PSAs(pressure sensitive adhesives)에 사용되는 접착제 원료의 종류에는 3가지가 있다. ① solventborne acrylics 와 고무, ② aqueous dispersions 그리고 ③SIS/SBS block-copolymer hot melts 가 그것이다. 이중에서도 SIS/SBS hot melts는 급속한 성장률을 보이고 있다. 이처럼 SIS/SBS hot melts가
UV경화형 도료는 미국, 유럽지역에서 1970년대 초 상업화되기 시작하였는데, 1975년경 BASF.Bayer의 불포화 polyester UV도료 개발은 목공용 도료 분야에 하정된 반면, 미국에서는 UVresin 연구가 활발하여 전분야에서 적용되었다. 1994년 시장규모는 60억원 정도로 추정되는데 93년부터 일기 시작한 유색 하이그로
UV를 소스(source)로하여 레지스트(resist)의 유동성을 이용해서 나노 사이즈의 패턴을 전사하는 방법으로 기존의 Deep UV, EUV, X-ray를 사용한 방법보다 비용이 저렴하며 대량 생산이 가능하다는 장점이 있다.
2. 본론
⑴ Nano Imprint Lithography (NIL) 의 기본 원리
나노 임프린트 리소그래피는 초미세 가
전 세계에는 수천 가지의 전자제품 신제품이 눈 깜짝할 사이에 시장에 나왔다 사라지고 있다. 이런 현상은 고속으로 성장하는 과학기술과 전세계적인 유통망으로 전자제품의 소비형태가 빠르게 변화하고 있기 때문이며 소비자가 느끼는 전자제품의 만족도가 제품 구입시기에서부터 점점 짧아지기 때
Ⅳ. Method & Structure of implementation
1) 프로젝트 세부 실험목표 : Topas™ COC로 만든 두께 0.1cm의 컵을 가정하고, 그것의 UV 투과도를 토대로 살균 가능한 컵으로서의 가능성을 살펴본다.
2) 실험방법 :
① Tg=140℃의 Topas를 이용한다. (Topas의 Tg는 첨가된 norbornene의 양에 따라 80℃에서 180℃까지 변한다.)