![[화학공학] 오존수와 고체산(sol-gel법)을 이용한 웨이퍼 세정-1](http://images.happyhaksul.com/thumb/205/204361-0001.gif)
![[화학공학] 오존수와 고체산(sol-gel법)을 이용한 웨이퍼 세정-2](http://images.happyhaksul.com/thumb/205/204361-0002.gif)
![[화학공학] 오존수와 고체산(sol-gel법)을 이용한 웨이퍼 세정-3](http://images.happyhaksul.com/thumb/205/204361-0003.gif)
![[화학공학] 오존수와 고체산(sol-gel법)을 이용한 웨이퍼 세정-4](http://images.happyhaksul.com/thumb/205/204361-0004.gif)
![[화학공학] 오존수와 고체산(sol-gel법)을 이용한 웨이퍼 세정-5](http://images.happyhaksul.com/thumb/205/204361-0005.gif)
![[화학공학] 오존수와 고체산(sol-gel법)을 이용한 웨이퍼 세정-6](http://images.happyhaksul.com/thumb/205/204361-0006.gif)
![[화학공학] 오존수와 고체산(sol-gel법)을 이용한 웨이퍼 세정-7](http://images.happyhaksul.com/thumb/205/204361-0007.gif)
![[화학공학] 오존수와 고체산(sol-gel법)을 이용한 웨이퍼 세정-8](http://images.happyhaksul.com/thumb/205/204361-0008.gif)
![[화학공학] 오존수와 고체산(sol-gel법)을 이용한 웨이퍼 세정-9](http://images.happyhaksul.com/thumb/205/204361-0009.gif)
![[화학공학] 오존수와 고체산(sol-gel법)을 이용한 웨이퍼 세정-10](http://images.happyhaksul.com/thumb/205/204361-0010.gif)
![[화학공학] 오존수와 고체산(sol-gel법)을 이용한 웨이퍼 세정-11](http://images.happyhaksul.com/thumb/205/204361-0011.gif)
![[화학공학] 오존수와 고체산(sol-gel법)을 이용한 웨이퍼 세정-12](http://images.happyhaksul.com/thumb/205/204361-0012.gif)
![[화학공학] 오존수와 고체산(sol-gel법)을 이용한 웨이퍼 세정-13](http://images.happyhaksul.com/thumb/205/204361-0013.gif)
![[화학공학] 오존수와 고체산(sol-gel법)을 이용한 웨이퍼 세정-14](http://images.happyhaksul.com/thumb/205/204361-0014.gif)
![[화학공학] 오존수와 고체산(sol-gel법)을 이용한 웨이퍼 세정-15](http://images.happyhaksul.com/thumb/205/204361-0015.gif)
![[화학공학] 오존수와 고체산(sol-gel법)을 이용한 웨이퍼 세정-16](http://images.happyhaksul.com/thumb/205/204361-0016.gif)
![[화학공학] 오존수와 고체산(sol-gel법)을 이용한 웨이퍼 세정-17](http://images.happyhaksul.com/thumb/205/204361-0017.gif)
![[화학공학] 오존수와 고체산(sol-gel법)을 이용한 웨이퍼 세정-18](http://images.happyhaksul.com/thumb/205/204361-0018.gif)
![[화학공학] 오존수와 고체산(sol-gel법)을 이용한 웨이퍼 세정-19](http://images.happyhaksul.com/thumb/205/204361-0019.gif)
![[화학공학] 오존수와 고체산(sol-gel법)을 이용한 웨이퍼 세정-20](http://images.happyhaksul.com/thumb/205/204361-0020.gif)
분야
ppt- 반도체의 집적도 증가에 따라 미세 오염물 제거 문제
- 기존 RCA법의 오염물 다량 배출 (H2O2,HCL,DI water)
및 고가 운영비
- 지표면 오존의 심각성(오존주의보)
wafer 세정에서 RCA 세정법을 대체 할 친환경 & 고기능 세
정제 및 공정 개발 (고체산 + 오존수 2단계 공정)
반도체 세정 공정
웨이퍼 세정
-Wafer의 표면 상태를 Control 하는 공정
- 양질의 산화(Oxide)막 증착을 위한 자연 산화막의 제거
- Nitride 막의 제거
- 잔류 금속의 제거
- Organic 제거, 파티클 제거
Surface Micro Roughness Control
