![[실험레포트] TFT 공정-1](http://images.happyhaksul.com/thumb/661/660674-0001.gif)
![[실험레포트] TFT 공정-2](http://images.happyhaksul.com/thumb/661/660674-0002.gif)
![[실험레포트] TFT 공정-3](http://images.happyhaksul.com/thumb/661/660674-0003.gif)
![[실험레포트] TFT 공정-4](http://images.happyhaksul.com/thumb/661/660674-0004.gif)
![[실험레포트] TFT 공정-5](http://images.happyhaksul.com/thumb/661/660674-0005.gif)
![[실험레포트] TFT 공정-6](http://images.happyhaksul.com/thumb/661/660674-0006.gif)
분야
hwp서론
실험목적
실험 이론
본론
Auto CAD
Photolithography Process
Cell Process
결론
실험결과 및 고찰
▶ 실험 목적
Auto CAD 프로그램으로 자신이 직접 디자인한 Mask를 그려본다.
장비를 이용하여 포통공정과 셀공정에 대해 배우고, 직접 장비를 사용하여 익혀본다.
▶ 실험 이론
우리가 실험에서 쓰인 TN N/W mode에 대해서 간단히 설명하였다.
▸ Cell 구조
▸ TN LCD 동작 원리
▸ TN mode의 장점 : 높은 개구율 및 투과율, 양산 잡음에 둔감
▸ TN mode의 단점 : 잔류 retardation이 존재, 느린 응답속도
