분석하기가 어렵다. 그러나 XRD를 사용하면 이런 어려움을 극복할 수가 있는데 모든 결정구조는 특정 X-선 회절 스펙트럼을 갖고 있으므로, X-선 회절분석은 고체 시료에 존재하는 성분들의 상비를 결정할 수 있다. 또한 최근의 XRD는 고치세료의 정량분석을 함에 있어 정밀도와 정확성을 보장하고 있다.
XRD를 이용한 미지의 시료 정량/정성 분석
1. 실험목적
X선은 파장이 0.01~100Å정도의 전자기파이다. 본 실험에서 이용하게 될 X-Ray Diffraction법(이하 XRD)은 X선의 파장이 원자 및 이온의 크기, 혹은 격자의 크기와 비슷한 상황에서 회절하는 현상을 이용하며, 결정구조를 해석하기 위한 가장 유력한 연구
실험 과정이 비교적 빠르고 편리하다는 장점도 있다.
그러나 기기의 가격이 비싸다는 단점이 있다.
X-ray Photoelectron Spectroscopy 의 응용분야로는 첨가제 분석, 화학 구조 규명은 물론 시료 표면 원소의 정성 및 정량, 결합 에너지 준위, 수직 분포 분석, 그리고 반도체에서 Gate oxide와 같이 두께가 얇은 oxid
재료의 분석과 가공 방식의 설계를 통해 성능을 향상시키는 방법을 설계 하고자 한다. 냄비의 성능향상을 위해서 기존 냄비에 반사율이 좋은 몇 가지 내부 코팅재료를 선정한 후 XRD를 통해 접착성을 통해 마모성을 분석하여 더 나은 성능을 발휘 할 수 있도록 소재를 설계한다.
3. 배경지식
냄비는
투과전자현미경은 주로 시료의 내부구조나 단면을 관찰하는데 쓰이고 있다. 원리는 광학현미경과 비슷하다. 전자현미경에서의 광원은 높은 진공 상태(1x10-4 이상)에서 고속으로 가속되는 전자선으로 이 전자선이 표본을 투과하여 형광판이나 사진필름에 초점을 맞추어 투사된다. 이 전자의 파장은 가