Experiment
제조한
PDMS 의
표면을
표면처리
RIE (Oxygen plasma)
로
처리
함
표면
처리
전과
처리
후
측정
sample의
contact angle
비교
Department of Materials Science & Engineering, Korea University
Experiment
실험
과정
1.Photolithography
리소그래피는 포토레지스트를 도포하는 공정으로 시작해 노광, 현상, 에칭, 포토레지스트 제거에 이르는 일련의 프로세스이다. 현상까지를 레지스트 처리공정으로 하며, 에칭 공정과 분리해서 생각할 수도 있다. 현재, 패턴 노광은 레티클이라 불리는 마스크 기판에 의해 축소 투영 전
A partially ionized gas created by application of an electric field. Positive ion/electron pairs are created by ionization reactions, maintaining overall charge neutral.
Commonly, radio-frequency (RF) at 13.56 MHz is used to create the glow discharge.
Typical pressures are between 1 mtorr and 5 torr.
Effective method for modifying surface property of a material little effect on bulk pro
surface modification)에 대하여 연구가 계속되어 왔다. Tamada와 Ikada는 세포부착반응과 증식은 대상물질의 친수성 예로서 물접촉각(water contact angle)과 관련이 있으며, 표면이 약 7 0°의 접촉각을 가질 때 섬유아세포가 가장 많이 부착 증식한다고 보고하였다. Crystal 등도 세포부착반응은 대상재질의 계면자유에