1.Photolithography
리소그래피는 포토레지스트를 도포하는 공정으로 시작해 노광, 현상, 에칭, 포토레지스트 제거에 이르는 일련의 프로세스이다. 현상까지를 레지스트 처리공정으로 하며, 에칭 공정과 분리해서 생각할 수도 있다. 현재, 패턴 노광은 레티클이라 불리는 마스크 기판에 의해 축소 투영 전
투과전자현미경은 주로 시료의 내부구조나 단면을 관찰하는데 쓰이고 있다. 원리는 광학현미경과 비슷하다. 전자현미경에서의 광원은 높은 진공 상태(1x10-4 이상)에서 고속으로 가속되는 전자선으로 이 전자선이 표본을 투과하여 형광판이나 사진필름에 초점을 맞추어 투사된다. 이 전자의 파장은 가
가바 GABA ☞
가산 모형 additive model ☞
가산 색 혼합 color mixture ☞
가산 요인 additive factors ☞
가산 차이 모형 additive-difference model ☞
가산규칙 addition rule ☞
가산성 additivity ☞
가산적 색채 혼합 additive color mixture ☞
가산적 additive ☞
가상 체험 virtual experience ☞
가상 현실 virtual reality ☞
가
Ⅱ. Discussion
이번 실험의 목적은 기판의 roughness와 표면처리에 따라서 접촉각이 어떻게 변하는지 관찰하고 이를 바탕으로 부착일과 Critical Surface Tension을 구하는 것이었다. 실험에 앞서 contactangle이란, 기판 위에 형성된 액적에 대해 고체, 액체, 기체 세 개의 상이 만나는 점에서의 고체표면과 액체표면
접촉각(water contactangle)과 관련이 있으며, 표면이 약 7 0°의 접촉각을 가질 때 섬유아세포가 가장 많이 부착 증식한다고 보고하였다. Crystal 등도 세포부착반응은 대상재질의 계면자유에너지 (interfacial free energy)와 관련이 있으며, 친수성PHEMA (poly-hydroxyethylmethacrylat e)처럼 에너지가 5 erg/㎠ 미만이거나 소수