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분야
hwpⅡ. 특허의 개념
Ⅲ. 특허의 분류
1. 국제특허분류(IPC : International Patent Classification)
2. 미국특허분류(UPC, U.S. Patent Classes)
3. 일본의 특허분류(FI : File Index, F-Term : File Forming Term)
Ⅳ. 특허의 요건
1. 실체적 요건
2. 기타 요건
1) 정당 권리자의 출원일 것(특허법 제33조)
2) 선출원일 것(특허법 제36조)
Ⅴ. 특허의 이중출원
1. 의의
2. 가능대상
3. 이중출원 가능기간
4. 유의사항
5. 효과
Ⅵ. 특허의 웹데이터베이스
1. KIPRIS
1) 운영기관
2) 위치
3) 이용료
4) 특징
2. KINITI
1) 운영기관
2) 위치
3) 이용료
4) 특징
3. WIPS
1) 운영기관
2) 위치
3) 이용료
4) 특징
Ⅶ. 특허의 표준화
Ⅷ. 특허의 진보성
1. 판례 : 신규성 및 진보성 판단
2. 판례 : 외국의 심사예의 참고여부
Ⅸ. 특허의 신규설정등록
1. 구비서류
2. 신청 시 유의사항
1) 등록기간
2) 등록료
3. 권리기간
Ⅹ. 결론 및 제언
참고문헌
1990년대 들어 한국의 특허 출원 증가율이 다른 국가에 비해 높아진 이유는 대외적인 요인과 대내적인 요인으로 구분해서 설명할 수 있다. 대외적으로 1980년대 초반부터 미국이 특허정책을 슈퍼 301조와 연계하여 특허권 보호를 강화하여 왔고, 1986년 우루과이 라운드에서 지적재산권을 의제로 삼고 그 결과로서 TRIPs가 발효되어 세계 전체적으로 지적재산권 보호가 강화되었다. 이에 한국도 1980년에는 파리협약(Paris Convention), 1984년에는 특허협력조약(Patent Cooperation Treaty)에 가입하였고, TRIPs협정내용을 반영한 특허법을 개정하였다. 이러한 대외적 환경 변화와 대내적인 제도변화가 기업과 여타 특허생산자들에게 특허 출원을 독려하는 효과를 갖게 되었다.
다른 한편으로 이런 제도 변화와 함께 한국 내에서 R&D 투자가 급속히 증가한 것이 특허 증가의 보다 직접적인 요인으로 생각된다. R&D투자는 특허 생산의 가장 중요한 요인이다. 특허는 R&D투자의 산출물이라고 할 수 있기 때문이다.
Bound et al(1984), Hall et al(1986), Pakes and Griliches(1984)는 미국의 기업별 자료를 이용한 분석에서 R&D지출과 특허 간에 상관관계가 있음을 보여준다. 김태기는 한국의 산업별 자료를 이용해 R&D지출과 특허간의 관계를 살펴보고 있고, 김태기장선미는 한국의 기업별 자료를 이용해 R&D지출과 특허간의 관계를 살펴보고 있다. 두 연구 모두에서 특허 생산에 대한 R&D지출의 탄력성에 약간의 차이가 있으나, R&D 지출과 특허 생산 간에 유의한 양의 관계가 있음을 보여준다. 이는 한국 특허의 급속한 증가가 여러 환경적 요인만이 아니라 보다 직접적으로는 R&D지출 증가에 기인한 것임을 보여주고
신동한(1996), 인터넷에서 찾아보는 특허정보, 데이터베이스월드
유미특허법률사무소 역(2002), 특허법 개설, 제13판, 대광서림
이종일(1996), 특허법, (주)한빛지적소유권센터
이재성(1997), 특허자료 활용방안, 특허청, 특허정보 43호
한국 발명특허협회(1988), 발명으로 성공한 사람들, 서울 : 한국 발명특허협회
