1. 서론
나노기술이란 ‘나노미터 크기의 물질들이 갖는 독특한 성질과 현상을 찾아내고 이러한 성질을 갖는 나노물질을 정렬시키고 조합하여 매우 유용한 성질의 소재, 디바이스 그리고 시스템을 생산하는 과학과 기술’을 말한다. Nanoimprint lithography(이하 NIL)는 이러한 나노기술을 이용하여 초미
나노 사이즈의 패턴을 전사하는 방법으로 기존의 Deep UV, EUV, X-ray를 사용한 방법보다 비용이 저렴하며 대량 생산이 가능하다는 장점이 있다.
2. 본론
⑴ NanoImprint Lithography (NIL) 의 기본 원리
나노 임프린트 리소그래피는 초미세 가공인 나노 가공을 실현하기 위해 제안된 기술이다. 기존 반
, 입자 크기, 입자 모양 및 온도에 따라 기존 자기기록 미디어의 저장 밀도의 한계를 넘어 새로운 데이터 저장용 소자로의 적용이 가능할 것으로 판단된다. 또한, 이미 언급한 용도 이외에 최근에는 특수 물질을 분리하기 위하여 분자 날인 고분자 입자(molecular imprinted polymer microampere) 제조, 이온 응답
기술을 말한다. 나노(nano)'라는 말은 난쟁이를 뜻하는 고대 그리스어 나노스(nanos)에서 유래된 것으로서, 1나노미터는 1미터의 10억분의 1이고, 1밀리미터의 100만분의 1이다. 이는 머리카락 굵기의 약 8~10만분의 1
정도이며, 수소원자 10개를 나란히 늘어놓은 정도의 길이를 나타낸다.
최근의 반도체 분야
기술이 대두될 것으로 예상된다. 이러한 선 폭 미세화와 웨이퍼 대형화는 현재 사용되고 있는 광 투사 리소그래피 관련 기술의 가격을 상승시키는 중요한 추세로써 미래 기술 발전에서 가장 먼저 해결해야 할 문제로 지적되고 있다. 또한 최근 급 부상하고 있는 나노기술과 바이오 기술 등은 새로운 형