리소그래피기술들이 제안되어 연구되고 있다.
이 보고서에는 리소그래피의 종류와 문제점 및 해결 방안을 찾아보고 그 대체의 기술로 주목받고 있는 나노임프린드 리소그래피,
주형과 도장 방식을 이용한 나노구조물 제작에 대하여 알아보고, 현재 기술의 장벽을 뛰어넘기 위하여 어떤 연구를
나노임프린트리소그래피는 초미세 가공인 나노 가공을 실현하기 위해 제안된 기술이다. 기존 반도체 공정의 사진 현상 방식의 미세화의 한계점을 극복하고, 스탬프에 잉크를 채워 도장을 찍듯이 나노 크기의 패턴을 간단하게 기판위에 찍어내어 나노구조물을 제작하는 것이다. 이는 현재 100nm급의
스탬프를 레지스트 층과 떼어낸다. 2006년 4월 전자공학회지 제33권 제4호, 연세대학교, 강신일
그림 2. NIL 공정해석을 위한 공정도
이 임프린트리소그래피공정은 기존의 다른 나노 패터닝 기술(포토 리소그라피, 전자 빔 리소그라피 등)처럼 고가의 장비가 필요 없고, 공정 시간이 짧게 걸리는 장
공정은 모든 프로세스 기술의 중심이며, 반도체 공장에서도 가장 많은 금액의 투자를 필요로 하는 장치이다. 패턴 형성 후에는 반드시 에칭 공정이 수반되며 현성된 포토레지스트 패턴을 마스크로 하여 처리할 수 있다.
1.2.Phothlithography 과정
(1)clean wafers
세정은 리소그래피를 처음으로 하는 각 공
Ⅱ. 나노공정의 분야
나노공정의 경우 나노 자체의 학문이 단독으로서 사용되기보다는 NT/BT/IT/EI(환경에너지 기술) 등을 전반적으로 아우르는 융합 기반기술(Platform technology)에 쓰이며 이를 BENIT 융합이라고 부른다. 현재의 산업 현장에서는 주로 반도체 분야, 의료분야에서 많이 쓰이는 공정이다.
나